9月21日，美國原子級精密制造工具的納米技術(shù)公司Zyvex Labs發(fā)布公告，已推出世界上最高分辨率的光刻系統(tǒng)“ZyvexLitho1“，其使用電子束光刻技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了768皮米(即0.768納米)的原子級精密圖案和亞納米級分辨率。Zyvex Labs已經(jīng)開始接受ZvyvexLitho1系統(tǒng)的訂單，交貨期約為6個月。

　　EUV光刻機(jī)是當(dāng)前先進(jìn)制程的必備設(shè)備。荷蘭阿斯麥(ASML)作為全球第一大光刻機(jī)設(shè)備商，同時也是全球唯一可提供EUV光刻機(jī)的設(shè)備商。在市調(diào)機(jī)構(gòu)CINNO Research發(fā)布的2022年上半年全球上市公司半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)務(wù)營收排名Top10報告中排名第二。

　　Zyvex Labs此次推出的ZyvexLitho1光刻系統(tǒng)，基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是EBL電子束光刻方式，可以制造出了0.7納米線寬的芯片，相當(dāng)于2個硅原子的寬度，是當(dāng)前制造精度最高的光刻系統(tǒng)。

　　據(jù)悉，ZyvexLitho1光刻系統(tǒng)ZyvexLitho1的高精度光刻可以用于實(shí)驗室階段高端制程工藝的產(chǎn)品研發(fā)，是傳統(tǒng)芯片制造所需光刻機(jī)的一個應(yīng)用補(bǔ)充，主要可用于制造對于精度有較高要求的量子計算機(jī)的相關(guān)芯片，例如高精度的固態(tài)量子器件以及納米器件及材料，對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展也具有巨大的促進(jìn)作用。目前，Zyvex Labs已經(jīng)開始接受訂單，6個月內(nèi)就可出貨。

　　對于這個新型光刻系統(tǒng)是否會威脅到EUV光刻的統(tǒng)治地位，賽迪顧問集成電路產(chǎn)業(yè)研究中心一級咨詢專家池憲念表示：“短期內(nèi)并不會“，他指出ZyvexLitho1是一種使用電子束曝光作為光刻方式的設(shè)備，與傳統(tǒng)光刻機(jī)工作原理會有明顯的差異。它是通過電子束改變光刻膠的溶解度，最后選擇性地去除曝光或未曝光區(qū)域。它的優(yōu)勢在于可以繪制10納米以下分辨率的自定義圖案，是屬于無掩模光刻直接寫入的工作方式，精度遠(yuǎn)高于目前的傳統(tǒng)光刻機(jī)。但是由于這類型設(shè)備的單個產(chǎn)品光刻的工作時間要在幾小時到十幾小時不等，工作效率方面還需進(jìn)一步提高，因此不會快速取代EUV光刻機(jī)。

　　作者：許子皓　　來源：中國電子報、電子信息產(chǎn)業(yè)網(wǎng)