2月15日，ASML發(fā)布2022年度財報。報告顯示，ASML在2022年銷售額達到212億歐元，與2021年相比增長了13.8%，毛利率為49.7%。

　　ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink在年報中介紹，盡管2022年經歷了很多動蕩，但是ASML依舊取得了不錯的成績。預計到2025—2026 年，ASML將大幅提升產能，達到年產90臺EUV(極紫外光)光刻機和600臺DUV(深紫外光)光刻機。同時，在2027年到2028年，將增產20個高數值孔徑EUV光刻機。

　　年報中對ASML最新光刻設備做了詳細介紹。年報顯示，最新一代的EUV 0.33 NA光刻系統(tǒng)TWINSCAN NXE：3600D，與前代產品TWINSCAN NXE：3400C相比，生產率提高了15%～20%，覆蓋率提高了約30%，同時還提高了系統(tǒng)可用性。EUV 0.55 NA是下一代EUV光刻系統(tǒng)，相比較于EUV 0.33 NA而言有更高的分辨率。該系統(tǒng)預計將于2025年首次部署，將在2025—2026年開始支持大批量生產。EUV 0.55 NA光刻系統(tǒng)TWINSCAN EXE：5000已經在2022年收到了采購訂單，預計該系統(tǒng)未來將達到每小時220片晶圓的生產率。

　　年報顯示，2022年第三季度ASML推出了最新浸入式系統(tǒng)TWINSCAN NXT：2100i，該系統(tǒng)除了對透鏡計量、光罩調節(jié)和晶圓表的內在改進以及對整體交叉匹配改進外，NXT：2100i還具有對準優(yōu)化器12顏色包等創(chuàng)新。該系統(tǒng)能提供每小時295片晶圓的生產率，能夠為3nm 及以下節(jié)點上的浸沒層的提供最具成本效益的解決方案。在干式系統(tǒng)中，最新TWINSCAN NXT：1470雙級ArF系統(tǒng)，可以打印分辨率低至220nm的圖案，用于200mm和300mm晶圓生產，實現每小時330個晶圓的生產率。

　　作者：沈叢　　來源：中國電子報、電子信息產業(yè)網