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光刻機(jī) | 光刻技術(shù)_荷蘭ASML光刻機(jī)_國產(chǎn)EUV光刻機(jī)

導(dǎo)讀

INTRODUCTION

光刻機(jī)又名掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中最精密的設(shè)備,是制造芯片的核心裝備。光刻機(jī)行業(yè)屬于明顯的寡頭壟斷格局,荷蘭ASML光刻機(jī)獨(dú)占鰲頭。國產(chǎn)光刻機(jī)研發(fā)雖然近年來突破重重壁壘,在核心技術(shù)上取得了突破性進(jìn)展,但短期仍難達(dá)到國際領(lǐng)先水平。

  • 2nm光刻機(jī)技術(shù)之爭,佳能有望利用納米壓印技術(shù)制造2nm芯片!

    2023年12月25日,佳能半導(dǎo)體機(jī)器業(yè)務(wù)部長巖本和德表示,佳能采用納米壓印技術(shù)的光刻機(jī)有望生產(chǎn)2nm芯片,且成本可以降至傳統(tǒng)光刻設(shè)備的一半。在巖本和德發(fā)聲的4天以前,荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML宣布,已向英特爾交付了全球首臺High NA(高數(shù)值孔徑)EUV(極紫外)光刻系統(tǒng),支持2nm制程及以下工藝的芯片制造...[文章閱讀]

  • 臺積電美廠投資額增加到400億美元,并導(dǎo)入首臺EUV光刻機(jī)!

    導(dǎo)入了首臺EUV光刻機(jī)并不意味著臺積電在美國建廠能“萬事大吉”。有消息稱,首臺EUV光刻機(jī)的導(dǎo)入也使得臺積電美國亞利桑那州廠加劇人才缺口。隨著建廠進(jìn)入到安裝先進(jìn)精密設(shè)備的關(guān)鍵階段,預(yù)計將有2000名相關(guān)技術(shù)人員的人才缺口。此前臺積電在財報電話會議上透露,受人力開支、許可證、合規(guī)性和通貨膨脹的影響,赴美設(shè)廠成本或至少是中國臺灣地區(qū)的四倍...[文章閱讀]

  • “電子束光刻、NIL壓印、DUV光刻”,誰能撼動EUV光刻機(jī)的王座?

    除了積極跟蹤EUV光刻機(jī)的開發(fā)進(jìn)程,芯片廠商也在尋找能夠替代EUV光刻機(jī)的技術(shù)。被寄予厚望的不僅僅是電子束光刻技術(shù)。鎧俠力推NIL壓印工藝,聲稱有望在2025年實現(xiàn)5nm工藝;臺積電采用DUV光刻技術(shù)同樣實現(xiàn)了7nm工藝,并聲稱DUV光刻技術(shù)可以也可以實現(xiàn)5nm工藝。...[文章閱讀]

  • ASML發(fā)布二季度財報,銷售收入54.3億歐元,2022年EUV光刻機(jī)產(chǎn)能將超60臺!

    在所有光刻機(jī)中EUV無疑最受關(guān)注。財報顯示,ASML第二季度極紫外線光刻機(jī)(EUV)共售出12臺,環(huán)比增長9臺,收入19.9億歐元,環(huán)比增長232%。ASML的EUV訂單量積壓已超過100臺,同時預(yù)計明年的EUV產(chǎn)能將超過60臺。...[文章閱讀]

  • EUV光刻機(jī)+172層3D NAND,2022存儲業(yè)新賽道攻略

    2021年,全球存儲器市場先揚(yáng)后抑,前三個季度內(nèi)存價格一路攀升,第四季度卻轉(zhuǎn)為供過于求,價格開始下跌。2022年,隨著三大原廠對EUV的應(yīng)用將進(jìn)一步增加,DRAM的成本構(gòu)成逐步改變,NAND閃存也將進(jìn)入172層時代,存儲器的市場形態(tài)或?qū)⒄宫F(xiàn)出一些新的特征。...[文章閱讀]

  • 高端光刻機(jī)光源和光學(xué)鏡頭等核心設(shè)備被國外壟斷,國內(nèi)企業(yè)仍處于追趕階段

    光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈上游關(guān)鍵部件包括工作臺、掩模臺、投影物鏡、激光器、和傳感器等器件,中游產(chǎn)品包括接觸式/接近式、掃描投影式、浸沒式、極紫外式光刻機(jī),下游主要面向芯片制造、MEMS燈、封裝、LED照明、平板顯示等領(lǐng)域。目前,光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈高端領(lǐng)域行業(yè)壁壘較高,國內(nèi)躋身行業(yè)前列還需要很長一段時間。...[文章閱讀]

  • 光刻機(jī)高端市場持續(xù)增長,國產(chǎn)28nm制程光刻機(jī)突破在即

    光刻機(jī)在芯片制造相關(guān)設(shè)備中處于核心地位,隨著半導(dǎo)體行業(yè)對芯片制程要求的不斷提高,促進(jìn)了光刻機(jī)產(chǎn)品從低端向高端的升級,光刻機(jī)市場規(guī)模逐步提升。目前IC前道光刻機(jī)高端市場被ASML壟斷,國產(chǎn)光刻機(jī)的技術(shù)仍然落后于國外,國內(nèi)企業(yè)在完成90nm制程的基礎(chǔ)上,正在向28nm制程光刻機(jī)加速邁進(jìn)。...[文章閱讀]

  • EUV光刻機(jī)國產(chǎn)化替代任重道遠(yuǎn)

    在《瓦森納協(xié)定》限制下,我國已初步形成自主研發(fā)90nm光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈,雖與荷蘭ASML的7nm全球高端產(chǎn)業(yè)鏈相差較遠(yuǎn),但在局部領(lǐng)域已達(dá)到世界領(lǐng)先水平,并逐漸融入ASML高端產(chǎn)業(yè)鏈。本文主要從光刻機(jī)的產(chǎn)業(yè)鏈、市場格局等方面進(jìn)行介紹。我國長期受《瓦森納協(xié)定》限制,無法使用國際高端光刻機(jī)所需要的先進(jìn)部件,導(dǎo)致我國光刻機(jī)與世界先進(jìn)水平差距較大。隨著國家02專項中的光刻機(jī)關(guān)鍵核心技術(shù)的突破,我國自主研發(fā)能力不斷加強(qiáng),在局部領(lǐng)域已經(jīng)達(dá)到世界先進(jìn)水平,目前我國上海微電子已實現(xiàn)自主研制90nm制程光刻機(jī),預(yù)計2021年將實現(xiàn)28nm光刻機(jī)。...[文章閱讀]

  • 國產(chǎn)光刻機(jī)發(fā)展現(xiàn)狀研究

    光刻機(jī)在芯片制造領(lǐng)域具有舉足輕重的地位,光刻機(jī)決定了晶體管的尺寸,晶體管的尺寸對于芯片的性能具有重大意義,半導(dǎo)體行業(yè)對于芯片性能的不斷追求推動了光刻機(jī)產(chǎn)品的不斷升級與創(chuàng)新。目前光刻機(jī)市場呈現(xiàn)寡頭壟斷的局面,高端技術(shù)掌握在巨頭企業(yè)手中。國產(chǎn)光刻機(jī)的技術(shù)仍然落后于國外,在技術(shù)研發(fā)以及人才建設(shè)上還有很長的路要走。...[文章閱讀]

  • 突破光刻機(jī)技術(shù)需要解決哪些難題

    近年來,我國的科學(xué)技術(shù)在不斷迎來突破。在發(fā)展的同時,在一些技術(shù)的發(fā)展方面仍然處于劣勢,這些技術(shù)都需要進(jìn)行更多的研發(fā)投入,進(jìn)而促進(jìn)行業(yè)的良性發(fā)展。指甲蓋大小的芯片,密布千萬電線,紋絲不亂,需要極端精準(zhǔn)的照相機(jī)——光刻機(jī)。光刻機(jī)精度,決定了芯片的上限。高精度光刻機(jī)產(chǎn)自ASML、尼康和佳能三家;頂級光刻機(jī)由ASML壟斷。...[文章閱讀]

  • 光刻機(jī)的國際市場環(huán)境解析,尼康是否有競爭市場?

    在科技時代,擁有更多的技術(shù)則意味著更多的市場話語權(quán),在光刻機(jī)市場也同樣,現(xiàn)在基本處于市場壟斷地位的ASML也是憑借的技術(shù)優(yōu)勢領(lǐng)先。Canon早已在很多年前便放棄了在高端光刻機(jī)上的競爭,目前產(chǎn)品主要集中在面板等領(lǐng)域。目前他們還在銷售的集成電路光刻設(shè)備在指標(biāo)標(biāo)上只相當(dāng)于ASML的低端產(chǎn)品PAS5500系列。Nikon作為世界上僅有的三家能夠制造商用光刻機(jī)的公司之一,似乎在這個領(lǐng)域不被許多普通人知道,許多人只知道Nikon的相機(jī)做的好,卻不知道Nikon光刻機(jī)同樣享譽(yù)全球。...[文章閱讀]

  • 國內(nèi)光刻機(jī)主要廠商技術(shù)進(jìn)展和面臨問題介紹

    國內(nèi)的光刻機(jī)企業(yè)和國外的企業(yè)相比差距巨大,但是在這樣的發(fā)展背景下,國內(nèi)的光刻機(jī)技術(shù)也在實現(xiàn)不斷的突破。光刻機(jī)的關(guān)鍵核心技術(shù),第一道難關(guān)是光刻機(jī)的曝光光學(xué)系統(tǒng),由數(shù)十塊鍋底大的鏡片串聯(lián)組成,其光學(xué)零件精度控制在幾個納米以內(nèi),ASML公司的鏡頭組由老牌光學(xué)儀器公司德國蔡司獨(dú)家生產(chǎn)。...[文章閱讀]

  • 光刻機(jī)的工作原理及在降低芯片制程的應(yīng)用

    光刻機(jī)在現(xiàn)在的芯片市場中處于非常重要的位置,其技術(shù)發(fā)展水平將直接影響芯片的發(fā)展。那么現(xiàn)在光刻機(jī)的工作原理是什么,它是怎樣在芯片制造中發(fā)揮作用的呢?光刻機(jī)根據(jù)應(yīng)用工序不同,可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī),以及用于封裝的光刻機(jī),其中封裝光刻機(jī)對于光刻精度和控制精度的要求都比制造用光刻機(jī)低很多,價值量也相對較低。...[文章閱讀]

  • 光刻機(jī)的幾個關(guān)鍵部件介紹,怎樣分析光刻機(jī)性能

    光刻機(jī)的發(fā)展限制了現(xiàn)在的芯片發(fā)展,現(xiàn)在國內(nèi)的光刻機(jī)發(fā)展和國外的差距非常大,那么光刻機(jī)的技術(shù)包括哪些方面呢?光刻機(jī)就是放大的單反,光刻機(jī)就是將光罩上的設(shè)計好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上,形成圖形。最核心的就是鏡頭,這個不是一般的鏡頭,可以達(dá)到高2米直徑1米,甚至更大。...[文章閱讀]

  • ASML公司為何能穩(wěn)居光刻機(jī)行業(yè)第一?

    荷蘭的ASML,是現(xiàn)在光刻機(jī),在現(xiàn)光刻機(jī)市場處于壟斷地位。那么這個企業(yè)能夠位于現(xiàn)企業(yè)第一的原因有哪些呢?ASML最開始是飛利浦光刻設(shè)備研發(fā)小組。1971年開始研發(fā),在1973年就研發(fā)了新型光刻設(shè)備,最后因為虧損太厲害,成本太高,分拆出來了,但所有的團(tuán)隊都保留了下來。在推翻現(xiàn)在ASML的市場壟斷地位的道路上,各國企業(yè)也在進(jìn)行相關(guān)的研究,但是基于時間和技術(shù)支持有限,現(xiàn)在其他公司和ASML的差距依舊很大。...[文章閱讀]

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